同方中科超光申请非连续短脉冲激光非相干偏振时序合成专利，能够通过同一放大器实现光放大

金融界2025年4月26日消息，国家知识产权局信息显示，同方中科超光科技有限公司;同方股份有限公司申请一项名为“一种非连续短脉冲激光非相干偏振时序合成装置”的专利，公开号CN119861490A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种非连续短脉冲激光非相干偏振时序合成装置，涉及激光合成技术领域。本发明包括合束器，合束器用于将主激光束与副激光束多路偏振态相互垂直的激光合成为同轴传播的光束，使两束激光在近场和远场的空间结构完全重合，指向性相同。本发明其合成后的激光偏振态一致，能够通过同一放大器实现光放大；装置适用于合成重复频率范围广的子激光，支持从几赫兹到几百赫兹的重复频率；此外，该装置还可以合成三路及以上的激光，合成后的激光重复频率为所有子激光重复频率之和，具有高扩展性和灵活性，适用于多种复杂激光应用场景。

天眼查资料显示，同方中科超光科技有限公司，成立于2020年，位于北京市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本7963.03万人民币。通过天眼查大数据分析，同方中科超光科技有限公司参与招投标项目93次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息16条，此外企业还拥有行政许可2个。

同方股份有限公司，成立于1997年，位于北京市，是一家以从事互联网和相关服务为主的企业。企业注册资本335029.7713万人民币。通过天眼查大数据分析，同方股份有限公司共对外投资了49家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息428条，专利信息553条，此外企业还拥有行政许可36个。

本文源自：金融界

作者：情报员