昆山国显光电 申请薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板专利，有利于提升薄膜晶体管的导电性能和可靠性

金融界 2025 年 4 月 29 日消息，国家知识产权局信息显示，昆山国显光电有限公司;合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板”的专利，公开号 CN119894056A，申请日期为 2025 年 1 月。

专利摘要显示，本申请提供一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板，涉及显示技术领域；薄膜晶体管包括依次层叠设置的第一有源层、栅极和源漏极层，栅极分别与第一有源层、源漏极层绝缘设置；第一有源层包括第一沟道区，第一沟道区的制备材料中铟元素占比大于 50%，以保证第一沟道区中包括占比较多的铟元素，从而有利于提升第一沟道区的迁移率，进而有利于提升包括第一有源层的薄膜晶体管的导电性能和可靠性，使得薄膜晶体管可以满足高精细面板的驱动要求，以提高相关显示面板的分辨率。

天眼查资料显示，昆山国显光电有限公司，成立于2012年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本670715.246304万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山国显光电有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目138次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可24个。

合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司参与招投标项目926次，专利信息3244条，此外企业还拥有行政许可26个。

本文源自：金融界

作者：情报员