中科科美申请离子注入及磁控溅射复合镀膜专利，极大提高加工效率

金融界2025年4月22日消息，国家知识产权局信息显示，北京中科科美科技股份有限公司申请一项名为“一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备”的专利，公开号CN119843236A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种离子注入及磁控溅射复合镀膜设备，包括：离子注入室、镀膜室、退火室、抽真空机构、多组样品架、传输机构、驱动机构和多台周转车。本发明的复合镀膜设备将多工序集成，实现了工件的连续稳定生产，确保了工件的加工质量，极大的提高了加工效率。

天眼查资料显示，北京中科科美科技股份有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2500万人民币。通过天眼查大数据分析，北京中科科美科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目171次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息84条，此外企业还拥有行政许可3个。

本文源自：金融界

作者：情报员