上海华力申请 TEM 制样方法专利，提高 TEM 制样的成功率和效率

金融界 2025 年 5 月 9 日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“TEM 制样方法”的专利，公开号 CN119936084A，申请日期为 2025 年 1 月。

专利摘要显示，本发明公开了一种 TEM 制样方法，包括：步骤一、对芯片样品进行去层处理以暴露出所要分析的目标层。步骤二、将目标层中的邻近图形接地，邻近图形为和目标位置相邻的图形。步骤三、对芯片样品进行 FIB 切割以形成 TEM 样品；在 FIB 切割过程中，当发现明亮衬度图形时，明亮衬度图形为邻近图形，通过邻近图形确定目标位置。本发明能提高 TEM 制样的成功率和效率。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2070次，专利信息2292条，此外企业还拥有行政许可342个。

本文源自：金融界

作者：情报员