信利光电取得氢化硅薄膜制备系统专利，可用于制备氢化硅薄膜

金融界2025年4月24日消息，国家知识产权局信息显示，信利光电股份有限公司取得一项名为“一种氢化硅薄膜的制备系统”的专利，授权公告号CN222781676U，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种氢化硅薄膜的制备系统，包括：真空镀膜腔室，用于提供真空镀膜环境；旋转装置，用于带动镀膜衬底进行旋转，设置于所述真空镀膜腔室内；氩气装置，用于提供真空镀膜用的氩气，设置于所述真空镀膜腔室外；氢气装置，用于提供真空镀膜用的氢气，设置于所述真空镀膜腔室外；电离装置，用于对混合气体中的氩气进行电离，使之形成高能等离子束；靶材装置，用于提供真空镀膜用的硅靶材，设置于所述真空镀膜腔室内；其中，所述氩气装置和氢气装置分别连通至所述真空镀膜腔室内的电离装置。该制备系统可用于制备氢化硅薄膜。

天眼查资料显示，信利光电股份有限公司，成立于2008年，位于汕尾市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本40000万人民币。通过天眼查大数据分析，信利光电股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目14次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可238个。

本文源自：金融界

作者：情报员